| 无锡吉致电子科技有限公司CMP抛光液和CMP清洗剂研发新建项目一般变动环境影响分析报告全本公示 |
| 发布者：zhhb 发布时间：2023/2/27 15:19:35 点击：985 |
根据中华人民共和国生态环境部办公厅《污染影响类建设项目重大变动清单（试行）》（环办环评函〔2020〕688号），以及《省生态环境厅关于加强涉变动项目环评与排污许可管理衔接的通知》（苏环办〔2021〕122号）等文件，一般变动环境影响分析报告公示如下： 项目名称：CMP抛光液和CMP清洗剂研发新建项目 建设地点：无锡市新吴区行创四路19-2号 建设单位：无锡吉致电子科技有限公司 公示时间：2023年2月27日~2023年3月6日 公示内容：一般变动影响分析报告 |
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